以下是電子超純水系統的介紹：

系統概述

電子超純水系統是專為電子行業生產超高純度水的設備，能為芯片制造、半導體加工等對水質要求高的工藝提供優質水源，去除水中幾乎所有的雜質，滿足精密制造對水質的嚴苛要求。

系統構成

- 預處理系統：包括多介質過濾器去除懸浮物、泥沙等大顆粒雜質；活性炭過濾器吸附余氯、有機物等；精密過濾器攔截更小粒徑的顆粒，保護后續設備。

- 反滲透系統：利用高壓泵使水通過反滲透膜，去除水中的大部分鹽分、有機物、微生物等，是除鹽的關鍵步驟。

- 離子交換系統：通常采用混床樹脂，進一步去除水中殘留的微量離子，實現深度除鹽，提高水的純度。

- 精處理系統：有超濾裝置去除微小顆粒和膠體；紫外線殺菌器殺滅細菌和病毒；拋光混床對水質進行最終的精細處理，確保水質達到超純標準。

- 供水系統：由超純水儲存罐（氮封水箱）和輸送泵等組成，通過循環管路將超純水穩定地輸送到各個用水點，保證用水的連續性和穩定性。

系統特點

- 超高水質：能生產出電阻率高達18MΩ·cm以上的超純水，滿足電子行業嚴格的水質要求。

- 自動化程度高：采用先進的自動化控制系統，可實現遠程監控、自動調節運行參數、故障報警和診斷等功能，減少人工操作，提高系統運行的可靠性和穩定性。

- 穩定運行：系統設計合理，關鍵設備采用高品質材料和部件，具備良好的抗腐蝕、抗污染能力，可長期穩定運行，降低維護成本。

應用領域

- 半導體制造：用于芯片清洗、光刻、蝕刻等工藝，防止雜質影響芯片性能和成品率。

- 顯示面板生產：如液晶面板、OLED面板制造中的鍍膜、清洗等工序，保證面板的顯示質量和穩定性。

- 電子元器件生產：在電容器、電阻器、集成電路封裝等生產過程中，提供高純度的清洗用水和工藝用水。

核心技術指標

典型工藝